主真空室

方形前開門結構，尺寸L×W×H:400×400×450mm

進樣室(選配)

開門結構，尺寸約為?200 X 300mm

真空系統配置

主真空室

復合分子泵、機械泵、氣動閘板閥

進樣室

機械泵、分子泵、閥門

極限壓力

主真空室

≤6. 67x10-5pa(經烘烤除氣后）

進樣室

≤6.67X10-4 pa(經烘烤除氣后）

恢復真空時間

主真空室

30分鐘可達到6. 6x10-4 pa(系統短時間暴露大氣并充干燥氮氣開始抽氣）

進樣室

30分鐘可達到6. 6x10-3 Pa (系統短時間暴露大氣并充干燥氮氣開始抽氣）

磁控靶組件

2-4套永磁靶；靶材尺寸?60mm (其中一個可濺射磁性材料）；各靶射頻濺射和直流濺射兼容；靶內水冷；三個靶可共同折向上面的樣品中心；靶與樣品距離90~110mm可調；每個靶配氣動擋板。

基片加熱臺

樣品尺寸

?3英寸

運動方式

基片可連續回轉，轉速0-30rpm

加熱

基片加熱最高溫度600℃±1℃

擋板形式

進口SMC轉角氣缸控制

工藝氣路系統

質量流量控制器2-4路

*可選部件

進樣室磁控靶組件

永磁靶，靶材尺寸? 60mm。

膜厚儀

國產/進口

靜音氣泵

無油潤滑

計算機控制系統

自動控制、工藝讀入、參數設置、實時監控等功能

設備占地面積

主機

1800X1200mm2

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